TJ金屬掩膜版蒸鍍掩模板激光精密切割精密加工

掩模和光刻工藝是很關(guān)鍵的，因?yàn)樗麄儧Q定著器件的極限尺寸。除了紫外線(xiàn)，電子束和X射線(xiàn)也能用來(lái)對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光 。

掩模版的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機(jī)中，掩模版作為一個(gè)光學(xué)元件位于會(huì)聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模版上的圖形縮小4~10倍（現(xiàn)代光刻機(jī)一般都是縮小4倍）后投射在晶圓表面。為了區(qū)別于接觸式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又稱(chēng)為倍縮式掩模（reticle）  。

掩膜版功能：

掩膜版的功能類(lèi)似于傳統(tǒng)照相機(jī)的底片。制造商通常根據(jù)客戶(hù)所需要的圖形，用光刻機(jī)在原材料上光刻出 相應(yīng)的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細(xì)光掩膜圖形的感光空白板。通過(guò)光刻制版工藝，將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現(xiàn)為利用已設(shè)計(jì)好的圖案，通過(guò)透光與非透光方式進(jìn)行圖像（電路圖形）復(fù)制，從而實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。

梁工