TD牌新型環(huán)保光刻膠清洗劑

光刻版在使用過(guò)程中會(huì)粘上光刻膠、灰塵等污染物，影響光刻效果。光刻版表面顆粒大影響到每一個(gè)芯片。其顆粒移除率（PRE）需要達(dá)到或接近。工廠生產(chǎn)的光刻版需要經(jīng)常清洗。為了保證光刻版潔凈，必須定期對(duì)光刻版進(jìn)行清洗，而清洗的效果與清洗工藝在設(shè)備和清洗液選用上的合理配置有著密切的關(guān)系。

一、光刻板清洗工藝：

1.1、原有去除光刻膠及其他有機(jī)污染物的方法

對(duì)于光刻膠及其他有機(jī)污染物，比較常見(jiàn)的方法是：種利用丙酮浸泡光刻版，在浸泡的同時(shí)可以超聲提高浸泡效果。對(duì)于比較干凈的光刻版，浸泡基本就能將有機(jī)污染物去除干凈。對(duì)于光刻膠較多的光刻版，浸泡只能將光刻膠泡軟，還需要用無(wú)塵布或無(wú)塵棉蘸丙酮輕輕擦洗，或在光刻版清洗設(shè)備中采用毛刷刷洗，通過(guò)外力將頑固的光刻膠去除掉。刷洗完成后，通常采用高壓水沖洗光刻版，通過(guò)高壓微細(xì)水滴的沖擊力去除仍然吸附在光刻版表面的剩余光刻膠。

第二種辦法采用濃硫酸和過(guò)氧化氫的混合物清洗，再用去離子水沖洗，去除光刻膠。隨后的清潔即去除圖案化、檢查和修復(fù)任何殘留在光刻版表面的光刻膠或顆粒污染物。強(qiáng)氧化劑清洗之后再用氫氧化銨噴霧，以抵消殘留酸，然后用去離子水沖洗以消除硫酸銨。

1.2、新型去除光刻膠及其他有機(jī)污染物的方法

TD牌新型去除光刻膠清洗液是本公司自主研制開(kāi)發(fā)的高新技術(shù)產(chǎn)品，具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，TD牌新型光刻膠清洗液是一種利用分子置換原理達(dá)到光刻板除膠、除油、除塵、防氧化的新型清洗技術(shù)。TD牌新型光刻膠清洗液對(duì)光刻板表面沒(méi)有任何損傷和腐蝕，具有環(huán)保、無(wú)污染、無(wú)腐蝕性、不燃等優(yōu)異性能，使用安全、高效、環(huán)保。是替代國(guó)際國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上通用丙酮和酸性清洗液的安全性產(chǎn)品。TD牌新型光刻膠清洗液產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：工作環(huán)境大幅改善，清洗液不用加溫、不用水，可重復(fù)使用、無(wú)廢液排放，清洗干凈徹底，安全環(huán)保。使用方法是浸泡清洗、一步完成。

二、光刻版清洗效果：經(jīng)測(cè)試在全自動(dòng)光刻版清洗機(jī)上，LED廠家的光刻版進(jìn)行了清洗，清洗前后在200倍的顯微鏡下效果，如圖所示。能夠很明顯看到，光刻膠被有效去除。

三、結(jié)論

光刻版清洗的新技術(shù)、新材料TD牌新型光刻膠清洗液替代了兩種常用的光刻版清洗工藝材料，達(dá)到安全環(huán)保、清洗干凈徹底、清洗液不用加溫、無(wú)廢液排放、可重復(fù)使用目的。

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