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新型環(huán)保光刻膠清洗劑

   
新型環(huán)保光刻膠清洗劑
 
發(fā)布時(shí)間:2023-01-03 18:07
地  區(qū):內(nèi)蒙古>包頭市
公  司:包頭市新興新能源科技開(kāi)發(fā)有限公司
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詳細(xì)說(shuō)明
 新型環(huán)保光刻膠清洗劑        
   
規(guī)  格: 型  號(hào): 數(shù)  量:
品  牌:TD 包  裝: 價(jià)  格:面議

TD牌新型環(huán)保光刻膠清洗劑

光刻版在使用過(guò)程中會(huì)粘上光刻膠、灰塵等污染物,影響光刻效果。光刻版表面顆粒大影響到每一個(gè)芯片。其顆粒移除率(PRE)需要達(dá)到或接近。工廠生產(chǎn)的光刻版需要經(jīng)常清洗。為了保證光刻版潔凈,必須定期對(duì)光刻版進(jìn)行清洗,而清洗的效果與清洗工藝在設(shè)備和清洗液選用上的合理配置有著密切的關(guān)系。

一、光刻板清洗工藝:

1.1、原有去除光刻膠及其他有機(jī)污染物的方法

對(duì)于光刻膠及其他有機(jī)污染物,比較常見(jiàn)的方法是:種利用丙酮浸泡光刻版,在浸泡的同時(shí)可以超聲提高浸泡效果。對(duì)于比較干凈的光刻版,浸泡基本就能將有機(jī)污染物去除干凈。對(duì)于光刻膠較多的光刻版,浸泡只能將光刻膠泡軟,還需要用無(wú)塵布或無(wú)塵棉蘸丙酮輕輕擦洗,或在光刻版清洗設(shè)備中采用毛刷刷洗,通過(guò)外力將頑固的光刻膠去除掉。刷洗完成后,通常采用高壓水沖洗光刻版,通過(guò)高壓微細(xì)水滴的沖擊力去除仍然吸附在光刻版表面的剩余光刻膠。

第二種辦法采用濃硫酸和過(guò)氧化氫的混合物清洗,再用去離子水沖洗,去除光刻膠。隨后的清潔即去除圖案化、檢查和修復(fù)任何殘留在光刻版表面的光刻膠或顆粒污染物。強(qiáng)氧化劑清洗之后再用氫氧化銨噴霧,以抵消殘留酸,然后用去離子水沖洗以消除硫酸銨。

1.2、新型去除光刻膠及其他有機(jī)污染物的方法

TD牌新型去除光刻膠清洗液是本公司自主研制開(kāi)發(fā)的高新技術(shù)產(chǎn)品,具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),TD牌新型光刻膠清洗液是一種利用分子置換原理達(dá)到光刻板除膠、除油、除塵、防氧化的新型清洗技術(shù)。TD牌新型光刻膠清洗液對(duì)光刻板表面沒(méi)有任何損傷和腐蝕,具有環(huán)保、無(wú)污染、無(wú)腐蝕性、不燃等優(yōu)異性能,使用安全、高效、環(huán)保。是替代國(guó)際國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上通用丙酮和酸性清洗液的安全性產(chǎn)品。TD牌新型光刻膠清洗液產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)工作環(huán)境大幅改善,清洗液不用加溫、不用水,可重復(fù)使用、無(wú)廢液排放,清洗干凈徹底,安全環(huán)保。使用方法是浸泡清洗、一步完成。

二、光刻版清洗效果:經(jīng)測(cè)試在全自動(dòng)光刻版清洗機(jī)上,LED廠家的光刻版進(jìn)行了清洗,清洗前后在200倍的顯微鏡下效果,如圖所示。能夠很明顯看到,光刻膠被有效去除。

三、結(jié)論

光刻版清洗的新技術(shù)、新材料TD牌新型光刻膠清洗液替代了兩種常用的光刻版清洗工藝材料,達(dá)到安全環(huán)保、清洗干凈徹底、清洗液不用加溫、無(wú)廢液排放、可重復(fù)使用目的。

包頭市新興新能源科技開(kāi)發(fā)有限公司

技術(shù)電話:13514728180

 

   
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